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剝離成膜、厚膜成膜、低溫成膜多功能型 真空蒸鍍設備 SEC-22C

概要

1.採用了電子束式的蒸發源。

  可以進行高熔點金屬和氧化物的鍍膜。

2.蒸發速度的抑制和膜厚的控制由水晶發振式膜厚計來進行

3.搭載的主泵為冷凝泵。

4.操作控制系統為全自動式。


特征

1.為獲得良好的膜厚分布,配置了蒸發源和基板的治具。

2.電子束式蒸發源採用了6點式坩堝,因此同一真空內可以鍍6種膜  

3.基板收納容量為Φ75mm30片、Φ100mm20片、Φ150mmで9片。

4.可以做到入射角±5°以內的鍍膜。

5.真空槽內的防著板做成了可以分割的形式,更換起來更加方便。

6.作為可選配件,提供了基板清掃機構以及冷阱。


用途

1.電極膜?保護膜

2.剝離膜

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